FTM 薄膜厚度光譜測量儀
FTM 薄膜厚度光譜測量儀通過薄膜表⾯與基底材料反射光⼲涉現象,可快速⽆損測量薄膜的厚度,膜厚測量范圍為1nm-1mm,待測材料主要有PET、氧化物、氮化物和保護膜層等,通常這些覆膜的基底材料包括硅晶⽚或玻璃等,還可測銅箔的厚度,⼴泛應⽤于半導體、⼯業⽣產中。
儀器特點
1. 測量準確度眼nm;
2. 膜厚測量范圍1nm-1mm;
3. 可分析單層或多層薄膜,最多可⾄6層薄膜;
4. 測量速度快,精準度⾼,可在線監測;
5. ⾮接觸⽆損檢測,不會損傷鍍膜表⾯;
6. 可拓展:⽀持在線測量項⽬開發。
測量對象
技術參數
|